掩膜版制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝（與光刻法在矽表面制備高精度的圖案類似），這種方法可以根據客戶要求靈活設計各種圖案，且制備出來的圖案尺寸標准。我們的圖案尺寸精度可以達到0.01mm以上，邊緣銳利無毛刺，開孔直線度好，真圓度好。

圓形掩膜板当前產品特點：
1、低開模費,可以按設計人員的設計要求進行掩膜圖形任意更改，成本低
2、能實現金屬的半刻，增加公司LOGO，實現品牌化生
3、極高的精密度,最高可達+/-0.0075mm的精度，滿足不同当前產品的組裝要求
4、複雜外形当前產品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本
5、沒有毛刺，壓點，当前產品不變形,不改變材料性質，不影響当前產品的功能
6、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求
7、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對各種圖案設計無限制
8、制造各類機械加工所無法完成的金屬部件

 如果客戶有自己的圓形掩膜版的樣品，可以只考慮做一片上面所示的單片掩膜版就行。如果沒有較好的固定器件的方案，建議采用我們的叠層設計法。