如何制作光刻掩膜版？

掩盖版，又稱光刻版。光盖。光盖版，英文名稱PHOTOMASK，材質爲石英玻璃。蘇打玻璃。菲林版等。，通過真空镀膜形成铬和铬氧化物光遮蔽層，然後通過激光或電子束光刻在遮蔽層上形成所需的精密圖案，主要用于集成電路(IC)、IC封裝、微機電(MEMS)、功率器件和分離器件、平板顯示行業(FPD)

    制作光刻掩膜版的步驟如下：

    步驟1：提供掩膜基板，在掩膜基板上塗一層光刻膠；

    步驟2：對所述光刻膠進行曝光、顯影，形成光刻膠圖案；

    步驟3：采用電鑄工藝或物理氣相沉積工藝，將一層掩膜材料沉積在金屬基板上光刻膠圖案的直孔內；

    步驟4:去除掩膜基板和光刻膠圖案，得到初始掩膜板；初始掩膜板有多個陣列布置。開口尺寸等于蒸镀所需的設計開口尺寸的直孔通孔，以及位于兩個相鄰直孔通孔之間的擋牆；

    步驟5。在初始覆膜板的上下表面形成上光致蝕刻層圖案。下光致蝕刻層圖案；上光致蝕刻層圖案完全覆盖擋牆上表面，下光致蝕刻層圖案僅覆盖擋牆下表面中間部分；

    步驟6。采用化學蝕刻工藝蝕刻初始掩膜板的下表面和直孔通孔的內壁，形成斜錐角的曲線槽；曲線槽的開口尺寸自下而上逐漸減小到蒸镀所需的設計開口尺寸；光刻掩膜版制作工藝。

    步驟7：去除上下光致刻蝕層圖案，得到掩膜板。